MEMSパークコンソーシアム事務局

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イベント情報

− MNOIC実習セミナー −
「X-CTを用いたマイクロナノデバイスの3次元構造の計測・評価、および三次元データ再構成の実習」開催のご案内

概要:
一般財団法人マイクロマシンセンター・MEMS協議会では、MEMS・マイクノナノ領域における産業推進の一環として独立行政法人・産業技術総合研究所・集積マイクロシステム研究センターの研究施設を用いた研究支援を行うMNOIC事業を実施しています。MNOIC事業も支援サービスを開始して1年強を迎え、多数の装置を用いた研究支援が可能になって来ましたので、今年度からMNOICで利用可能な最先端装置を用いた「実習形式のセミナー」を開催することに致しました。
今回はその第一弾として、MEMSの微細3次元内部構造を観察して、三次元データを取得可能なX線CT(コンピュータトモグラフィー)装置を用いた実習を計画致しました。この機会に世界最先端の装置を体験して頂き、更に多数のユーザの皆様にMNOICを利用して頂くことに期待しております。
主催:
一般財団法人マイクロマシンセンター・MEMS協議会 MNOIC事業
後援:
独立行政法人・産業技術総合研究所・集積マイクロシシテム研究センター
日時:
平成25年1月22日(火)14:00開始、23日(水)16:30終了予定
場所:
〒305-8564 茨城県つくば市並木1-2-1
産業技術総合研究所 東事業所:集積マイクロシステム研究センター内 NMEMSイノベーション棟 一般財団法人マイクロマシンセンター、MNOIC開発センター
http://mnoic.la.coocan.jp/access/index.html(MNOIC開発センター@つくば)
学習・実習内容:
  • X-CT(米国Xradia社産業用X線CT"VersaXRM-500")の原理・利用方法を販売元であるキヤノンマーケティングジャパン(株)からご紹介
  • 世界最先端の評価および三次元再構成による解析事例を東京大学・大竹准教授からご講演
  • X-CTの操作方法の実習(クリーンルームにて実施)
  • X-CTを用いたTSV(シリコン貫通配線基板)サンプルの計測実習
  • 測定データの解析、三次元データの再構成の実習(予め取得したデータを使った解析)
    費用:研究支援料および資料代(ホテル代、昼食代は含みません)
  • 一般(企業等)30,000円(消費税込)
  • アカデミア(大学、公的研究機関)15,000円(消費税込)
  • 学生10,000円(消費税込)
支払方法:
お申込み確認後受付メールをお送りします。ご住所に請求書と受講票をご郵送しますので、当日は、受講票をご持参ください。
お振込みは平成25年2月28日までにお願いいたします。また、お振込み期限を過ぎる場合には、お振込み予定日をメールまたはFAXにてお知らせください。
申込方法:
以下を記入の上、メールにてお申込みください。
郵便番号、ご住所、法人名、ご所属、ご氏名、連絡先(電話)、メールアドレス、請求書の宛先・宛名(ご住所と異なる場合)、その他ご連絡内容
申込先:
〒101-0026 東京都千代田区神田佐久間河岸67 MBR99ビル6F
TEL:03-5835-1870 FAX:03-5835-1873 E-mail:t_mihara@mmc.or.jp
一般財団法人 マイクロマシンセンター MEMS協議会事務局 MNOIC研究企画部
三原孝士 宛
※恐れ入りますが、宿泊場所等は各自でご予約ください。
最小実施人数:
1名
実習プログラム:
平成25年1月22日(火) 1日目
14:00集合(開発センター会議室):入所方法、集合場所等は別途ご案内致します。
1)14:00-14:10 開会の挨拶(人材育成委員会・前田龍太郎委員長)
2)14:10-14:30 オリエンテーリングとMNOICの概要説明(担当 三原孝士)
3)14:30-15:30 X-CTの原理と装置の開設(キヤノンマーケティングジャパン(株) 青木優様)
4)15:30-16:30 X-CTを用いたMEMS構造解析の例(東京大学工学系研究科 精密工学専攻 准教授 大竹豊先生)
5)16:30-17:00 MNOICの見学(三原孝士)
6)17:00-18:00 簡単な懇親会(参加者+関係者:ビールとおつまみ程度)
平成25年1月23日(水) 2日目
1)9:00 集合(開発センター会議室)
2)9:00-10:00 装置実習の概要説明、サンプルの説明(上野昭久、三原孝士)
3)10:00-12:00 装置実習 装置説明 2D、3D測定実習。(上野昭久、三原孝士)
4)13:00-14:00 装置実習 再構成実習(上野昭久)
5)14:00-16:00 測定結果の解釈、データ解析(上野昭久、三原孝士)
6)16:00-16:30 纏めと反省会(三原孝士、上野昭久、原田武)
7)16:30 終了予定
装置の概要:
  • 製造元:米国Xradia社産業用X線CT”VersaXRM-500”
  • 販売元:キヤノンマーケティングジャパン株式会社 産業機器新規事業企画部ニュープロダクト推進課
    VersaXRM-500の主な仕様(カタログから抜粋)
  • X線源:タングステン/最大管電圧160kV
  • 検出器:2048×2048 TE冷却CCD
  • 測定視野:最大50mm×50mm
  • 最高測定分解能:≦0.7μm
  • 最大サンプルサイズ:φ300mm 15kg
    http://cweb.canon.jp/newsrelease/2011-05/pr-xrm500.html
実習に使用するサンプル:
  • 貫通配線基板(TSV:Through Silicon Via)ウェハー
  • Viaの穴径 約50マイクロメータ
  • 貫通穴の長さ(ウェハーの厚さ) 400マイクロメータ
  • 配線材料 銅