MEMSパークコンソーシアム事務局

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イベント情報

東北地区ナノテクノロジー・ネットワーク H21
電子線描画リソグラフィスクー ル

本スクールは、文部科学省ナノテクノロジー・ネットワーク事業の一環として、産学官の研究者に電子線描画リソグラフィ技術を中心と した超微細加工に関する装置やその原理を学習する場と、電子線描画リソグラフィ技術を実地に習得する機会を提供し、ナノテクノロジ ーにおける人材育成に貢献することを目的としています。

プログラム

本スクールでは、電子線描画リソグラフィ技術およびフォトリソグラフィに関する講義4 コマを行います。また希望者に対して、電子線描 画リソグラフィに関する実習を実施します。
・ 実習は関連する講義を受けることが必須となっています。
・ 講義のみの参加も可能です。

a) 講義: 東北大学マイクロ・ナノマシニング研究教育センター 3 階セミナ―室において、リソグラフィの専門家をお招きし電子線描画リ ソグラフィ等についての最近の動向を講義頂くと共に、東工大関係者が電子線描画リソグラフィに関して実践的な講義を行います。

b) 実習: 5 月27 日から29 日にかけて、東北大学マイクロ・ナノマシニング研究教育センターにおいて、施設の装置を用いた1 日間の実 習を最大3 回行います。

参加者が希望する加工パターンに即した実習も、個別に対応可能です(下記の実習日程表内の「電子線描画応用コース」)。ただし、 東京工業大学ナノテクノロジーネットワーク支援プログラムに申請していただくことが前提となります。

開催場所・日程・定員
a) 講義:

東北大学マイクロ・ナノマシニング研究教育センター3階セミナ―室
5月26 日(火)13:00〜 / 定員:なし

時間 講義 所属/講師
13:00-13:10 挨拶 東北大学
田中 秀治
13:10-13:55 高精度電子ビームナノリソグラフィとその応用 NTT アドバンステクノロジー
生津 英夫
13:55-14:40 電子線リソグラフィの高解像・高速化 日立中央研究所
山本 治朗
15:00-15:45 デバイス・プロセスを見込んだ電子ビーム露光 東京工業大学
宮本 恭幸
15:45-16:30 最新のMEMS 向けリソグラフィツール(仮題) ズース・マイクロテック
レイモンド ラウ

*なお、実習も参加される方は、17:00-18:00 に実習実施に関する案内がありますので、忘れずに参加してください。

b) 実習:

東北大学マイクロ・ナノマシニング研究教育センター ナノマシニング棟 (集合:講義後連絡)

実習 定員
(人)
期間
(日)
日程 対象
電子線描画基本コース1) 3 1 5/27〜5/29 経験不問
電子線描画応用コース2) 3 2 5/27〜5/29 経験者

1) 基本コースでは高速トランジスタでの T ゲート作成に用いられる、三層レジスト形成、露光というリソグラフィ工程の実習を行います。

2) 事前に希望があった場合に設定します。事前にプロセス内容に関する打ち合わせが必要となります。

実習概要

基本コースでは高速トランジスターでのT ゲート作成に用いられる、三層レジスト形成、重ね電子線露光というリソグラフィ工程の実 習を行います。

費用

・学部卒業以上または、それと同等以上の経験を有する産官学の研究・開発従事者。(大学院生は指導教員の許可を得ること が条件です。)
・電子線描画・微細加工に関する経験不問。
・ 実習期間中、各実習開催機関の安全ガイドラインと専任スタッフの指示を守れる事。

募集期間

平成 21 年3月23 日(月)〜5月15 日(金) 実習については原則として先着順とします。

参加申し込み方法

・氏名、所属機関名および部署名(大学関係者の方は)、連絡先(電話番号および e-mail アドレス)、実習参加希望の有無(基本 コースor 応用コース)をe-mail でご連絡下さい。(e-mail アドレス :
・同じグループから複数で応募される場合は、グループ毎にまとめてe-mail をいただきますよう、ご協力をお願いいたします。
・スクールの内容等に関するお問い合わせも、下記までご連絡下さい。

受講者の選定方法

上記の応募資格をもとに、原則として先着順。

その他

・講義のみの受講可。
・実習への参加に際しては、講義の受講が必須。

主催

東京工業大学量子ナノエレクトロニクス研究センター
東北大学ナノテク融合技術支援センター

お問い合わせ先

東北大学ナノテク融合技術支援センター 事務局
e-mail :
Tel: 022-217-6037 Fax: 022-217-6047